真空燒結(jié)爐主要用于特種陶瓷（碳化硅（SIC）、碳化硼、氮化硅和氮化硅與碳化硅結(jié)合）、高熔點金屬、硬質(zhì)合金等粉末材料的高溫燒結(jié)。它更適用于碳化硅制品的再結(jié)晶燒結(jié)過程。它也可以用于退火，光亮和脫氣一些高熔點金屬。
　　
　　真空燒結(jié)爐利用中頻感應(yīng)加熱的原理，在真空抽真空后充氫的保護下，在線圈中的鎢坩堝中產(chǎn)生高溫，通過熱輻射傳輸至工作。適用于科研和軍事單位對鎢、鉬及其合金等難熔合金粉末進行成型和燒結(jié)。它又分為臥式真空燒結(jié)爐和立式真空燒結(jié)爐。電爐安裝場所應(yīng)滿足真空衛(wèi)生要求，周圍空氣應(yīng)清潔干燥，有良好的通風條件，工作場所不易揚塵等。
　　
　　真空燒結(jié)爐主要用于半導體元器件和功率整流器件的燒結(jié)過程，可用于真空燒結(jié)、氣體保護燒結(jié)和常規(guī)燒結(jié)。它是半導體設(shè)備系列中的一種新型工藝設(shè)備。設(shè)計理念新穎，操作方便，結(jié)構(gòu)緊湊，可在一臺設(shè)備上完成多個工藝流程。它也可用于真空熱處理、真空釬焊和其他領(lǐng)域的其他工藝。
　　
　　真空燒結(jié)爐要有兩類：
　　
　　一種分為普通燒結(jié)爐（1300℃及以下）、中溫燒結(jié)爐（1300℃～1600℃）和高溫燒結(jié)爐（1600℃～2400℃）。
　　
　　另一種按真空度劃分，可分為低真空、高真空和超高真空燒結(jié)爐。
　　
　　用戶在選擇真空燒結(jié)爐時，應(yīng)根據(jù)具體的加工材料選擇合適的型號，并在有效溫度范圍內(nèi)使用，使其發(fā)揮更好的作用。